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전체게시물 총 5건

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Wafer Track
장비이름
[Lithography]Wafer Track
Wafer Track(웨이퍼트랙)
  • 제작사 루멘반도체
  • 모델명 LM-8W
  • 도입연도 2022-06
  • 용도 Wafer 표면 상부 PR Coating 및 Develop(현상)
MPA
장비이름
[Lithography]MPA
MPA(거울투영노광장치)
  • 제작사 Canon
  • 모델명 MPA-600FA
  • 도입연도 2022-08
  • 용도 Wafer 기판 위 미세 패턴 형성
Spin Coater
장비이름
[Lithography]Spin Coater
? Substrate Size : Piece∼4" wafer
? Chuck rotation speed : 100∼8000rpm
? DC Servo Motor Spin state : 50Step, 20Recipe(Digital Program Type
? Time : 1∼999sec
? Variable Bowl size : 8inch, Al, SUS, Teflon, PP, etc
? Vacuum chuck : anodized Al, Acetal, Teflon, etc
? Electrical Power : 220V, 5A
? Dimension(mm) : 230×340×160
? Oilless Vac & pressure : -650mmHg
  • 제작사 마이다스시스템
  • 모델명 spin-1200D
  • 도입연도 2016-02-04
  • 용도 PR 코팅 및 기다 용액 코팅
PR Asher (Low Pressure Plasm System)
장비이름
[Lithography]PR Asher (Low Pressure Plasm System)
? Plasma excitation frequency: Microwave (2.45 GHz)
? Plasma power: 50-300 W
? Gas inlets with mass-flow-controller: 1 channel
? Power supply: 230 V, 50/60 Hz
? Power input (without vacuum pump): 0.5 kVA
? Vacuum gauge: Pirani
? Weight: 100 k
  • 제작사 Plasma Finish
  • 모델명 LPPS
  • 도입연도 2005-02
  • 용도 변형되거나 잔여 PR 제거
Mask Aligner
장비이름
[Lithography]Mask Aligner
? Alignment Mode : Manual
? Alignment Accuracy : top-side?1um, bottom-side?2um
? Print mode : Proximity & Contact, soft contact, hard contact, low vacuum & vacuum contact
? Wavelength : 365 nm
? Microscope Magnification : 5x
? Resolution : 1 um
? Possible Mask : 4-6 inch mask
  • 제작사 Suss Microtec
  • 모델명 MA6
  • 도입연도 2004-05
  • 용도 포토리소그래피 공정에 사용되는 장비로 반도체 소자 혹은 집적회로의 형상의 마스크 패턴을 웨이퍼 표면의 포토레지스트(PR)에 전사하는 장치